各行各业的发展已经离不开集成电路的支持，而时代也朝着信息化的方向发展，随着集成电路的不断创新，其稳定性也应当随之不断上升，因此加强对集成电路的检测具有重要意义，对其失效分析流程的掌握具有重要作用。

在集成电路技术中，电路工艺是其基础技术，主要包括氧化技术、薄膜再生技术等等。早在1960年左右，人们就已经初步分析出了氧化二硅的电性质，逐步完善界面物理研究的基本内容，随后科学家逐步掌握了如何控制钠离子玷污，通过使用高纯度材料生产出了MOS集成电路。 MOS集成电路具有容易控制、集成度高的特点，而且在工艺上可裁剪性强。当前半导体工艺生产的集成电路大多数都应用了MOS结构或CMOS结构。在制版技术中常常应用到的光刻技术，早先常应用在照相术上，在1950年随之应用到半导体技术之中，通过对光刻技术的灵活应用构成了集成电路的相关结构。对于电路设计这一板块而言，在1970年左右，英特尔公司通过利用集成电路技术发明出了微处理器，为人类电子信息化的发展做出了巨大贡献。同时微处理器的发明也推动了CMOS结构集成电路系统的快速发展， 实现了智能化电子产品的问世，成为信息技术发展的载体。

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